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碳化硅的主要特性是什么?為什么碳化硅在高頻下的性能優(yōu)于IGBT?

發(fā)布時間:

2024-10-09


碳化硅的主要特性是什么?為什么碳化硅在高頻下的性能優(yōu)于IGBT?

廣東佳訊電子有限責(zé)任公司 2024年10月09日 16:18 廣東

碳化硅(SiC)是一種由硅(Si)和碳(C)組成的半導(dǎo)體化合物,屬于寬帶隙(WBG)材料家族。它的物理鍵非常牢固,使半導(dǎo)體具有很高的機(jī)械、化學(xué)和熱穩(wěn)定性。寬帶隙和高熱穩(wěn)定性使SiC器件能夠在高于硅的結(jié)溫下使用,甚至超過200°C。碳化硅在電源應(yīng)用中的主要優(yōu)勢是其低漂移區(qū)域電阻,這是高壓功率器件的關(guān)鍵因素。今天來分享一下 [“關(guān)于氮化鎵的10件事”]

 

01

碳化硅的主要特性是什么?

硅與碳的結(jié)合為這種材料提供了出色的機(jī)械、化學(xué)和熱性能,包括:

(1)高導(dǎo)熱性

(2)低熱膨脹和出色的抗熱震性

(3)低功耗和開關(guān)損耗

(4)高能效。

(5)高工作頻率和溫度(工作結(jié)點(diǎn)高達(dá)200°C)

(7)采用玻璃鈍化工芯片尺寸小(擊穿電壓相同)

(8)本征體二極管(MOSFET器件)

(9)出色的熱管理,可降低冷卻要求

(10)使用壽命長

02

碳化硅在電子產(chǎn)品中的應(yīng)用有哪些?

碳化硅是一種非常適合電源應(yīng)用的半導(dǎo)體,這首先要?dú)w功于其承受高電壓的能力,比硅可用的電壓高十倍?;谔蓟璧陌雽?dǎo)體具有更高的導(dǎo)熱性、更高的電子遷移率和更低的功率損耗。SiC二極管和晶體管也可以在更高的頻率和溫度下工作,而不會影響可靠性。SiC器件(如肖特基二極管和FET/MOSFET晶體管)的主要應(yīng)用包括轉(zhuǎn)換器、逆變器、電源、電池充電器和電機(jī)控制系統(tǒng)。

03

為什么碳化硅在電源應(yīng)用中克服了硅?

盡管硅是電子產(chǎn)品中使用最廣泛的半導(dǎo)體,但它開始顯示出一些局限性,尤其是在高功率應(yīng)用中。這些應(yīng)用中的一個相關(guān)因素是半導(dǎo)體提供的帶隙或能隙。當(dāng)帶隙很高時,它使用的電子設(shè)備可以更小,運(yùn)行更快,更可靠。它還可以在比其他半導(dǎo)體更高的溫度、電壓和頻率下工作。雖然硅的帶隙約為1.12eV,但碳化硅的值幾乎是3.26eV的三倍。

04

為什么碳化硅可以處理如此高的電壓?

功率器件,尤其是MOSFET,必須能夠處理極高的電壓。由于電場的介電擊穿強(qiáng)度比硅高約十倍,SiC可以達(dá)到非常高的擊穿電壓,從600V到幾千伏。SiC可以使用比硅更高的摻雜濃度,并且漂移層可以做得非常薄。漂移層越薄,其電阻越低。理論上,在高電壓下,每單位面積漂移層的電阻可以降低到硅的1/300。

05

為什么碳化硅在高頻下的性能優(yōu)于IGBT?

在大功率應(yīng)用中,IGBT和雙極晶體管過去大多使用,目的是降低高擊穿電壓下產(chǎn)生的導(dǎo)通電阻。然而,這些器件具有顯著的開關(guān)損耗,導(dǎo)致發(fā)熱問題,限制了它們在高頻下的使用。使用SiC,可以制造肖特基勢壘二極管和MOSFET等器件,以實現(xiàn)高電壓,低導(dǎo)通電阻和快速操作。

06

哪些雜質(zhì)用于摻雜碳化硅材料?

在其純粹形式中,碳化硅的行為類似于電絕緣體。通過控制雜質(zhì)或摻雜劑的添加,SiC可以像半導(dǎo)體一樣工作。P型半導(dǎo)體可以通過摻雜鋁,硼或鎵來獲得,而氮和磷的雜質(zhì)會產(chǎn)生N型半導(dǎo)體。碳化硅在某些條件下具有導(dǎo)電的能力,但在其他條件下則不然,這取決于紅外輻射、可見光和紫外線的電壓或強(qiáng)度等因素。與其他材料不同,碳化硅能夠在很寬的范圍內(nèi)控制器件制造所需的P型和N型區(qū)域。由于這些原因,SiC是一種適用于功率器件的材料,能夠克服硅提供的局限性。

07

SiC如何實現(xiàn)比硅更好的熱管理?

另一個重要參數(shù)是導(dǎo)熱率,它是半導(dǎo)體如何能夠散發(fā)其產(chǎn)生的熱量的指標(biāo)。如果半導(dǎo)體不能有效地散熱,則會對器件可以承受的最大工作電壓和溫度施加限制。這是碳化硅優(yōu)于硅的另一個領(lǐng)域:碳化硅的導(dǎo)熱系數(shù)為1490 W/m-K,而硅提供的導(dǎo)熱系數(shù)為150 W/m-K。

08

與Si-MOSFET相比,SiC反向恢復(fù)時間如何?

與硅MOSFET一樣,SiC MOSFET具有內(nèi)部體二極管。體二極管的主要限制之一是不希望的反向恢復(fù)行為,當(dāng)二極管在攜帶正正向電流的同時關(guān)閉時,就會發(fā)生這種行為。因此,反向恢復(fù)時間(trr)成為定義MOSFET特性的重要指標(biāo)。如拿1000V Si基MOSFET和SiC基MOSFET的trr比較??梢钥闯?,SiC MOSFET的體二極管非??欤簍rr和irr的值非常小,可以忽略不計,能量損失Err大大降低。

09

為什么軟關(guān)斷對短路保護(hù)很重要?

SiC MOSFET的另一個重要參數(shù)是短路耐受時間(SCWT)。由于SiC MOSFET占用芯片的非常小的面積并且具有高電流密度,因此其承受可能導(dǎo)致熱斷裂的短路的能力往往低于硅基器件。例如,對于采用TO1封裝的2.247kV MOSFET,Vdd=700V和Vgs=18V時的短路耐受時間約為8-10μs。隨著Vgs的降低,飽和電流減小,耐受時間增加。隨著Vdd的降低,產(chǎn)生的熱量更少,耐受時間更長。由于關(guān)斷SiC MOSFET所需的時間非常短,當(dāng)關(guān)斷速率Vgs較高時,高dI/dt會導(dǎo)致嚴(yán)重的電壓尖峰。因此,應(yīng)使用軟關(guān)斷來逐漸降低柵極電壓,避免過壓峰值。

10

為什么隔離式柵極驅(qū)動器是更好的選擇?

許多電子設(shè)備既是低壓電路又是高壓電路,相互連接以執(zhí)行控制和電源功能。例如,牽引逆變器通常包括低壓初級側(cè)(電源、通信和控制電路)和次級側(cè)(高壓電路、電機(jī)、功率級和輔助電路)。位于初級側(cè)的控制器通常使用來自高壓側(cè)的反饋信號,如果沒有隔離柵,則容易受到損壞。隔離柵將電路從初級側(cè)電氣隔離到次級側(cè),形成單獨(dú)的接地參考,實現(xiàn)所謂的電流隔離。這可以防止不需要的AC或DC信號從一側(cè)傳輸?shù)搅硪粋?cè),從而導(dǎo)致電源組件損壞。

以上就是一個[“關(guān)于氮化鎵的10件事”]分享全過程了,希望這期文章會對您有所幫助。

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關(guān)鍵詞:

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